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薄膜和刮膜蒸發(fā)器

適用于高要求物料的工藝

薄膜蒸發(fā)器和刮膜蒸發(fā)器是用于液體混合物蒸餾的高性能設(shè)備。
為了降低蒸發(fā)產(chǎn)物的沸點(diǎn)，UIC 薄膜和刮膜蒸發(fā)器的工作壓力可降至約 1 mbar。
沸騰條件下的低蒸發(fā)溫度和短停留時(shí)間最大程度地降低了產(chǎn)品的熱應(yīng)力，使 UIC 薄膜和刮膜蒸發(fā)器成為復(fù)雜分離任務(wù)的溫和蒸餾解決方案。

 

查看典型應(yīng)用

設(shè)備原理

蒸發(fā)器由一個(gè)加熱圓筒組成，待蒸餾的物料混合物送入圓筒中。它以重力方式沿著蒸發(fā)器的內(nèi)壁被刮成薄膜沿出料方向流動(dòng)。蒸發(fā)器內(nèi)部專門開發(fā)的刮板系統(tǒng)可確保液體介質(zhì)刮成很薄的液膜、形成良好的湍流且分布均勻。這確保了良好的傳熱和傳質(zhì)，從而使低沸點(diǎn)物質(zhì)迅速從薄膜表面蒸發(fā)。由于在設(shè)備中的停留時(shí)間很短，物質(zhì)所受的熱負(fù)荷很小。
蒸發(fā)的成分，即輕組分蒸汽，會(huì)在蒸發(fā)器外部的冷凝器上冷凝。

 

處理量范圍

  • 處理量：0.1公斤/小時(shí)至數(shù)噸/小時(shí)
  • 最低運(yùn)行壓力：低至 1mbar
  • 工作溫度下的最大粘度：75,000 mPas
  • 產(chǎn)品停留時(shí)間：沸點(diǎn)條件下小于 1 分鐘

設(shè)備特點(diǎn)

  • 熱交換面積： 0.05 m2 至 103m2
  • 也可提供實(shí)驗(yàn)室和中試規(guī)模的設(shè)備和裝置
  • 薄膜和刮膜蒸發(fā)器可用作精餾塔的再沸器
  • 選擇不同的刮膜系統(tǒng)
  • 可根據(jù)防爆要求ATEX、電氣危險(xiǎn)或 GMP 指南進(jìn)行設(shè)計(jì)